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    Title: 抗反射膜於矽基薄膜太陽電池之光學性質研究
    Authors: 黃景良
    林松荺
    蕭朝全
    Keywords: 抗反射層
    二氧化矽
    氮化矽
    矽基薄膜太陽能電池
    Date: 2008-11-08
    Issue Date: 2010-02-02 17:00:30 (UTC+8)
    Abstract: 本研究論文,採用真空濺鍍機來鍍製複
    合層之二氧化矽與氮化矽奈米薄膜。藉由調
    控氮氣及氧氣的比例,在基材上形成多層結
    構之二氧化矽與氮化矽之抗反射層薄膜。使
    用的靶材為P 型矽靶,純度為99.999%。在雙
    層膜設計搭配上, 促使吸收光譜介於
    380nm~1200nm 間。在雙層膜設計搭配上, 促
    使吸收光譜介於380nm~1200nm 間。於可見光
    波段(380nm~780nm)平均穿透率達93%,相對
    於未鍍膜前玻璃的平均穿透率90%,已提升
    3%。而將二氧化矽與氮化矽奈米薄膜鍍在透
    明導電(TCO)玻璃上,在380~780nm 處已達到
    68.4%,相對於未鍍膜前之穿透率(67.6%)相
    比已有提高約1%; 在570~640nm 處已達到
    75.4%,與未鍍膜前相比已有提高約8%之多。
    Appears in Collections:[機械工程系所] SME 2008第六屆全國精密製造研討會-國際製造工程學會中華民國分會

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