English  |  正體中文  |  简体中文  |  Items with full text/Total items : 25504/26098 (98%)
Visitors : 6742635      Online Users : 86
RC Version 7.0 © Powered By DSPACE, MIT. Enhanced by NTU Library IR team.
Scope Tips:
  • please add "double quotation mark" for query phrases to get precise results
  • please goto advance search for comprehansive author search
  • Adv. Search
    HomeLoginUploadHelpAboutAdminister Goto mobile version


    Please use this identifier to cite or link to this item: https://ir.lib.ksu.edu.tw/handle/987654321/3798


    Title: 國產乾式真空幫浦使用於電漿輔助化學氣相沉積機台真空性能評估
    Authors: 張慎周
    蔣旭堂
    劉建惟
    薛漢鼎
    李鎮緯
    Keywords: 乾式真空幫浦
    電漿輔助化學氣相沉積
    真空性能
    Date: 2009-02-26
    Issue Date: 2009-08-15 19:44:29 (UTC+8)
    Abstract: 為確認國產自行設計製造的乾式真空幫浦,是否能使用於半導體與顯示器常用的電漿輔助化學氣相沉積機台,以一台英國廠商製造的電漿輔助化學氣相沉積機台做評估,該機台目前使用外國知名廠牌乾式真空幫浦。量測從真空腔體到乾式真空幫浦管件的幾何形狀、考慮體積氣體、材料表面釋氣、管路氣導隨壓力改變與實際量測所得幫浦抽氣速率隨壓力變化資訊,利用電腦模擬方法模擬出抽真空時間,此結果顯示符合機台所需求的抽真空時間需求。依據該機台所做的三種分別對氮化矽、氧化矽與非晶矽製程參數,推論其相對應的化學劑量方程式依據製程參數中每一步驟中氣流通量、腔體製程壓力,推算所需真空幫浦最小最有效抽氣速率,由電腦模擬結果顯示,預測試的國產式真空幫浦均能滿足其製程需求。
    Relation: 真空科技,21卷第1,2期(2008)16-21
    Appears in Collections:[電機工程系所] 期刊論文

    Files in This Item:

    File Description SizeFormat
    國產乾式-張慎周r.pdf3391KbAdobe PDF59View/Open


    All items in KSUIR are protected by copyright, with all rights reserved.


    本網站之所有圖文內容授權為崑山科技大學圖書資訊館所有,請勿任意轉載或擷取使用。
    ©Kun Shan University Library and Information Center
    DSpace Software Copyright © 2002-2004  MIT &  Hewlett-Packard  /   Enhanced by   NTU Library IR team Copyright ©   - Feedback