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    題名: 真空工程技術及其應用研討會(電機系)
    作者: 電機工程系
    日期: 2005
    上傳時間: 2009-08-15 00:52:18 (UTC+8)
    摘要: 真空技術對高科技產業的發展佔有舉足輕重的地位,舉凡材料科技的應用、資訊工業(光碟,磁碟) 、半導體(單晶,多晶矽,三-五和二-六族化合物) 、顯示器產業、微機電、金屬工業乃至生化科技應用如食品、製藥工業等。都要有真空技術作為產業技術的後盾,而在分析儀器上如電子顯微鏡,質譜儀、及高能加速器等都需要有一優良的真空環境,由此可知真空技術之重要性。鍍膜技術是真空技術的延伸,其應用非常廣泛,在半導體工業及平面顯示器產業,都需要鍍膜技術做為各種薄膜材料成長的基礎。本研討會為真空工程技術及其應用的研討範疇將包含真空之物理基本概念、真空元件工作原理分析、真空幫浦之最新發展,而在其應用方面之研討將包含MOCVD薄膜成長技術及光電元件應用、真空電漿處理技術、連續式濺鍍設備技術與產業應用,可提供國內從事真空工程與鍍膜技術相關研究發展工作的產學人士交流的機會。
    顯示於類別:[研究發展處] 專案補助計畫

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    真空工程技術及其應用研討會(電機系)研討會.pdf180KbAdobe PDF1105檢視/開啟
    真空工程技術及其應用研討會(電機系)計劃申請書.pdf114KbAdobe PDF905檢視/開啟


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