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    Title: 在不同基板溫度下沉積ATO薄膜光學性質之研究
    Authors: 陳政宏
    張華玲
    Keywords: 透明導電膜
    直流磁控濺鍍法
    Date: 2006-05-09
    Issue Date: 2009-08-06 23:39:40 (UTC+8)
    Abstract: 本研究採用直流磁控濺鍍法沉積ATO薄膜於玻璃基材上,並控制不同的基板溫度其參數有250-400℃及不同的氧流量(7、10、14、17sccm)。經過實驗結果發現沉積率會隨著溫度升高而有下降趨勢,其基板溫度400℃沉積速率最高,值約4nm/min。其可見光的透光率範圍約在85%左右。對電阻率而言會隨著溫度的提高,載子濃度也跟著提高,因此導電度也增加,電阻率相對就下降,其基板溫度在350℃時電阻率可達1.3x10-2Ω-cm。
    摻雜銻於二氧化錫(Antimony Doped Tin Oxide,簡稱ATO),是一種新型的多功能透明抗靜電膜及導電材料,在可見光範圍內具有高穿透率和高導電度,所以常被用來當作透明導電膜,主要應用在像太陽能電池、熱鏡、光-熱轉換器、光-電裝置、薄膜電阻器、氣體偵測器及液晶顯示器等光學元件上。本研究採用直流磁控濺鍍法沈積ATO薄膜於康寧玻璃(Eagle 2000)基材上,並探討光學性質及導電性及微結構分析。
    Appears in Collections:[機械工程系所] 學生專題

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